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苹果屏下Face ID新专利获批 多种设计方案被曝光!

  根据国外科技媒体PatentlyApple报道,苹果屏下批多曝光苹果公司近日在欧洲市场获得了一项新专利,新专展示了多种屏下FaceID解决方案。利获

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  苹果在专利中解释,以iPhone为代表的计方电子设备可以在多个非像素区域(non-pixelregions)包含多个传感器。

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  每个非像素区域会移除薄膜晶体管和其他显示组件,从而让光线通过,苹果屏下批多曝光提高屏幕到传感器的新专透射率。

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从18A到18F均为苹果设计的屏下FaceID解决方案,设置不同的种设非像素区域

  苹果在专利中表示可以将摄像头隐藏在屏幕的特定区域内,在18F描述中,计方非像素区域可以覆盖到整个屏幕。案被

苹果屏下批多曝光
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